密閉低溫循環(huán)器是采取機(jī)械形式制冷（壓縮機(jī)制冷方法）的低溫液體循環(huán)設(shè)備，具有提供低溫液體、低溫水浴的作用?？芍苯永鋮s試管、反應(yīng)瓶等進(jìn)行低溫下的化學(xué)反應(yīng)，進(jìn)行化學(xué)品和生物制品低溫貯存，也可結(jié)合雙層玻璃反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、搪瓷反應(yīng)釜，不銹鋼反應(yīng)釜等設(shè)備需要進(jìn)行多功能低溫條件下的化學(xué)反應(yīng)作業(yè)。

可滿足電子顯微鏡、電子探針、超高真空濺射儀、X光機(jī)、激光器、加速齊電燈貴重儀器設(shè)備的降溫需要。對于高純金屬、稀有物質(zhì)提純、環(huán)境實驗及磁控濺射、真空鍍膜等大型精密儀器設(shè)備可提供滿足對溫度和水質(zhì)雙重要求的冷卻水，具有節(jié)能，節(jié)水，防污染，防結(jié)垢的特點(diǎn)，以克服因冷卻水質(zhì)不良、溫度過高，水壓不穩(wěn)造成的貴重儀器設(shè)備無法使用的困難。(可根據(jù)用戶需求定做)

注意事項：

1.開機(jī)注意：

開機(jī)前加水位不高于容器上邊2厘米處。

2.電源警告：

電源必須符合該設(shè)備要求，并有可靠的接地。

3.水泵注意：

容器內(nèi)無水時或水面過低和凍結(jié)禁止使用。另裝循環(huán)泵時，決不能兩泵管道相串連，關(guān)閉循環(huán)閥時，不能開循環(huán)開關(guān)，避免造成設(shè)備損壞。

4.環(huán)境注意：

設(shè)備周圍必須有足夠的空間，距隔離物的距離不得小于400mm。本機(jī)應(yīng)置于通風(fēng)、干燥、無污染的場所。

5.維護(hù)：

打開機(jī)殼前，請斷開電源。制冷系統(tǒng)內(nèi)有高壓氣體，非專業(yè)人員不得打開。

技術(shù)指標(biāo)：